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    PRODUCT CENTER

    產品中心

    當前位置:首頁產品中心金相設備金相磨拋機MP-2DT雙盤金相試樣磨拋機

    雙盤金相試樣磨拋機
    產品簡介:

    雙盤金相試樣磨拋機,MP-2DT雙盤雙控觸摸屏金相試樣磨拋機在金相試樣制備過程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經過磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。

    產品型號:MP-2DT

    更新時間:2025-03-18

    廠商性質:生產廠家

    訪問量:782

    服務熱線

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    產品介紹

    一、產品概述

    雙盤金相試樣磨拋機MP-2DT 雙盤雙控觸摸屏金相試樣磨拋機在金相試樣制備過程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經過磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。MP-2DT雙盤雙控觸摸屏金相試樣磨拋機采用了觸摸屏,可使磨拋盤的轉速在50-1000r/min之間無極可調,通過更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序,展現了更廣泛的應用性。殼體采用整體吸塑,外觀新穎,具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點,并自帶冷卻裝置,可以在磨拋時對試樣進行冷卻,以防止因試樣過熱而破壞金相組織。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室,是金相試樣磨拋的設備。

    二、主要功能和特點

    1、殼體采用ABS一體成型,外觀新穎,大氣上檔次。

    2、水龍頭采用全銅鍍鉻工藝,防腐蝕性好。

    3、帶自動清洗功能,可對集污槽進行自動清洗,讓集污槽保持清潔。(選配)

    4、直流無刷電機,轉動平穩,噪音低,壽命長。(選配)

    5、無極調速加八擋定速,方便快捷滿足各種需求。

    6、倒計時功能,時間任意設定,到時停機。(選配)

    7、磨拋盤可以進行順時針或逆時針旋轉,適應不同需要。

    8、雙盤雙控使用更加靈活,讓制樣效率更加高效。
    技術參數

    磨盤直徑

    標配φ203mm(其它規格可定制)

    磨盤轉速

    50-1000r/min(無極調速)

    磨盤轉速

    八擋定速

    磨拋盤旋轉方向

    正反轉

    磨拋盤控制

    雙盤雙控

    電源

    電壓:220V  頻率:50HZ

    電機

    0.55KW

    外形尺寸

    730×765×320mm

    重量

    42Kg

     

    配置清單


    產品附件

    單位

    數量

    備注

    磨拋盤

    2

    已安裝在設備上

    擋水圈

    2

    已安裝在設備上

    壓圈

    2

    已安裝在設備上

    水砂紙

    2

    Φ203mm

    拋光織物

    2

    Φ203mm

    進水管

    1

    6分接口

    出水管

    1

    Φ32

    技術文件

    1.產品說明書1份            2.產品合格證1份

     

     

    雙盤金相試樣磨拋機

     

      

    雙盤金相試樣磨拋機的操作流程:  

    準備工作  

    在進行試樣制備之前,需要進行一些準備工作:  

    檢查設備和相關配件是否完好,尤其是磨盤、磨料和磨膏等。  

    將試樣固定到試樣架上,并注意避免試樣與夾具之間產生過大的壓力。  

    準備好玻璃片或標簽紙,并標注樣品編號等必要信息。  

    磨削  

    將試樣夾具固定到磨盤上,啟動設備進行磨削。具體步驟如下:  

    打開電源,按下起動按鈕,啟動設備。  

    調節磨盤轉速和旋轉方向,使其達到最佳磨削效果。  

    根據試樣材質和磨削要求,選擇合適的磨料和磨膏,并逐步調節磨盤和試樣之間的間隙,進行粗磨、中磨、精磨等不同過程。  

    經過每個磨削步驟后,用鑷子取出試樣,觀察其表面質量,并記錄下相關數據。  

    拋光  

    在完成磨削過程后,需要進行拋光,以進一步提高試樣表面質量和減少殘留磨痕。具體步驟如下:  

    更換磨盤,選擇合適的拋光布和拋光液。  

    將試樣夾具固定到新的磨盤上,并調節拋光盤轉速和旋轉方向。  

    在拋光過程中,注意控制拋光時間和壓力,避免過度損傷試樣表面。  

    拋光結束后,用鑷子取出試樣,觀察其表面質量,并記錄下相關數據。  

    清洗  

    在試樣制備完畢后,需要對試樣和設備進行清洗,以避免可能的污染和交叉感染。具體步驟如下:  

    關閉設備電源,并拆卸試樣夾具和拋光盤等配件。  

    將試樣和配件分別用乙醇或丙酮等有機溶劑進行清洗和消毒。  

    將設備內部和外部進行清潔和消毒,并及時更換濾紙等易污染的部件。  

    最后將試樣放置在干燥通風處,待其干燥后進行后續實驗。


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